xiamen_guo wrote:
版大,看到了没,分析得多么精辟!建议给袖珍天使加分,以资鼓励!
顺便也给我这个“罪魁祸首”加分,有这么好的帖,有我的一份苦劳。
脸皮好厚啊!
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袖珍天使 wrote:
“罪魁祸首”,呵呵,别这么说嘛。要不是你提出这个问题来,我还真不会去总结并发表 出来,呵呵。
由你引出这个问题来,有更多的兄弟受益,你也是有功啦,呵呵
另:上面的分析的参照曲线是取的一条直线,只是为了便于分析而已。在任意曲线上的阵列,也遵守同样的规则,请兄弟们认真想想。并期待高手出招斧正。
xiamen_guo wrote:
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恭喜你,版大又给你奖励了一分。
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我怎么没有份啊!版大!不公平!强烈抗议!
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抗议归抗议
有问题还是要说的。
袖珍天使,针对你的分析,我昨天思考了一下,你是只改变间隔而线的长度没有改变,所以会出现像你说的那几种情况。如果,我们在改变间隔的同时也改变线的长度和尺寸的标注方式,就可以得到我们要的结果--两侧阵列,特征不重合。在这里线的长度并不是我们要的,他只是一个参照,不是我们想要的结果。至于说我做的为什么原始特征会没掉(其实是存在的---点不掉的那个黑点就是),并且不能修改,我还是没有想通,我想会不会是软件的问题,有机回我会向PTC公司的顾问求证一下。![]()
kngqian wrote:
天使兄,把你的这个贴顶上来是想请教一下,上次你发的一个皇冠阵列我做出来怎么是这样?
袖珍天使 wrote:
哦,这样啊,呵呵,草图参照有误,请再仔细研究研究草图。
为什么 我要用一段圆弧结构线做参照,而不是用一整圆,就是避免这个问题。
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