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标题: 硬涂层 [打印本页]

作者: redfire 时间: 2004-10-7 22:03
标题: 硬涂层

硬涂层是通过不同方法在真空氛围中生成的陶瓷层。精密刀具中主要采用的方法有CVD（化学气相沉积）和PVD（物理气相沉积）；我们的硬涂层是用物理方法沉积(PVD)的。在这种方法中，在涂层和被涂敷的对象即基质之间不发生化学反应。涂层是在一个真空度高达10-5毫巴带等离子支撑体的腔体内涂敷的。其中，粒子从等离子处加速并以很高的动能冲击基质。由于粒子和基质之间存在很高的电势差，因此粒子被吸引。结果是产生一层非常硬的“皮”，可控制厚度在1～7微米范围，一般我们做最多的是2.5微米。对于高速钢，通过这种涂层处理，表面硬度至少可以提高三倍。对于碳化钨（硬质合金）基质这种材料如今在金属切削中用得越来越多，硬度至少要翻番

作者: 大臭屁 时间: 2004-10-8 22:01
老大!你理论学的不错啊!!!

作者: caifu 时间: 2004-10-9 21:13
很不错的解释,谢谢

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